|
| Название бренда: | AOBANG |
| минимальный заказ: | 25-30KG |
| Срок поставки: | 5-8 рабочий день |
| Условия оплаты: | Т/Т |
Передовые электролитические добавки, разработанные для обеспечения превосходной производительности в процессах медного покрытия.
H1 является отличным заполняющим и блескообразующим агентом в кислом медном процессе, и при сочетании с другими промежуточными продуктами, такими как SP, PN, P, GISS, промежуточные красители и т. д., он образует высокоэффективную добавку для кислого меднения; Обычно он растворяется отдельно перед приготовлением блескообразователя. Подходит для процесса кислого меднения и процесса щелочного цинкования без цианидов на оборудовании. Расход составляет 0,01-0,05 г/КАЧ.
Формула для процесса кислого меднения на оборудовании
Примечания:
H1 может использоваться в сочетании с SP, PN, P, GISS, MT-480, MT-880, AESS, промежуточными красителями и т. д. для приготовления высокоэффективных добавок для кислого меднения. Дозировка в растворе для гальванического покрытия составляет 0,0004-0,001 г/л, а яркость и степень заполнения снижаются при низком содержании; Если содержание слишком высокое, могут появиться дендритные блестящие полосы, которые можно устранить с помощью небольшого количества SP или электролиза с адсорбцией активированным углем.
Формула для щелочного цинкования без цианидов
Примечания:
Комбинация H1 и промежуточных материалов, таких как BPC, IZE, WT, DPE-III, может использоваться для приготовления высокоэффективных добавок для щелочного цинкования. Дозировка в растворе для гальванического покрытия составляет 0,01-0,02 г/л. При низком содержании яркость снижается, а при слишком высоком содержании покрытие склонно к хрупкости. Для устранения хрупкости могут быть добавлены смягчители или использована низкотоковая электролитическая обработка.
