HI-koperplatering Elektroplatering tussenprodukten Sterk gelijkmakend middel Verhelderend middel

Geavanceerde galvanische additieven ontworpen om superieure prestaties te leveren in koper galvaniseer toepassingen.

H1 is een uitstekend egaliserend en glansmiddel in het zuur koper proces, en wanneer gecombineerd met andere tussenproducten zoals SP, PN, P, GISS, kleurmiddel tussenproducten, etc., vormt het een hoogwaardig zuur koper additief; Meestal wordt het apart opgelost voordat het glansmiddel wordt bereid. Geschikt voor het zuur koper galvaniseer proces en het cyanidevrije alkalische zink galvaniseer proces op hardware. Het verbruik is 0,01-0,05g/KAH.

• Sterk egaliserend middel voor uniforme koperdepositie
• Glansmiddel voor verbeterde oppervlakteafwerking kwaliteit

• Formule voor Zuur Koper Galvaniseer Proces op Hardware

  Aandachtspunten:
  H1 kan worden gebruikt in combinatie met SP, PN, P, GISS, MT-480, MT-880, AESS, kleurmiddel tussenproducten, etc. om hoogwaardige zuur koper additieven te bereiden. De dosering in de galvaniseeroplossing is 0,0004-0,001g/L, en de glans en vulgraad zullen afnemen bij een lage inhoud; Als de inhoud te hoog is, zullen dendritische glanzende strepen ontstaan, die behandeld kunnen worden met een kleine hoeveelheid SP of geactiveerde kool adsorptie elektrolyse.

  Formule voor cyanidevrij alkalisch zink proces
  Aandachtspunten:
  De combinatie van H1 en tussenproducten zoals BPC, IZE, WT, DPE-III kan worden gebruikt om hoogwaardige alkalische verzinkingsadditieven te bereiden. De dosering in de galvaniseeroplossing is 0,01-0,02g/L. Wanneer de inhoud laag is, neemt de glans af, en wanneer de inhoud te hoog is, is de coating gevoelig voor broosheid. Verzachtende middelen kunnen worden toegevoegd om broosheid te elimineren of laagstroom elektrolytische behandeling kan worden gebruikt.