Χάλκινη επιχρίστωση Ηλεκτροπληγή Διαμεσολαβητικά

Προηγμένα πρόσθετα ηλεκτρολυτικής επιμετάλλωσης σχεδιασμένα για ανώτερη απόδοση σε εφαρμογές επιμετάλλωσης χαλκού.

Το H1 είναι ένας εξαιρετικός παράγοντας πλήρωσης και φωτεινότητας στη διαδικασία όξινου χαλκού και όταν συνδυάζεται με άλλα ενδιάμεσα όπως SP, PN, P, GISS, ενδιάμεσα βαφών κ.λπ., σχηματίζει ένα πρόσθετο όξινου χαλκού υψηλής απόδοσης. Συνήθως, διαλύεται ξεχωριστά πριν από την προετοιμασία του φωτεινιστή. Κατάλληλο για τη διαδικασία επιμετάλλωσης όξινου χαλκού και την αλκαλική επιμετάλλωση ψευδαργύρου χωρίς κυάνιο σε υλικό υλικού. Η κατανάλωση είναι 0,01-0,05g/KAH.

• Ισχυρός παράγοντας εξομάλυνσης για ομοιόμορφη εναπόθεση χαλκού
• Παράγοντας φωτεινότητας για βελτιωμένη ποιότητα φινιρίσματος επιφάνειας

• Φόρμουλα για τη διαδικασία επιμετάλλωσης όξινου χαλκού σε υλικό υλικού

  Σημεία προσοχής:
  Το H1 μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε συνδυασμό με SP, PN, P, GISS, MT-480, MT-880, AESS, ενδιάμεσα βαφών κ.λπ. για την προετοιμασία προσθέτων όξινου χαλκού υψηλής απόδοσης. Η δοσολογία στο διάλυμα επιμετάλλωσης είναι 0,0004-0,001g/L, και η φωτεινότητα και ο βαθμός πλήρωσης θα μειωθούν όταν η περιεκτικότητα είναι χαμηλή. Εάν η περιεκτικότητα είναι πολύ υψηλή, θα παραχθούν δενδριτικές φωτεινές γραμμές, οι οποίες μπορούν να αντιμετωπιστούν με μια μικρή ποσότητα SP ή ηλεκτρόλυση προσρόφησης ενεργού άνθρακα.

  Φόρμουλα για αλκαλική διαδικασία επιμετάλλωσης ψευδαργύρου χωρίς κυάνιο
  Σημεία προσοχής:
  Ο συνδυασμός του H1 με ενδιάμεσα υλικά όπως BPC, IZE, WT, DPE-III μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την προετοιμασία προσθέτων αλκαλικής γαλβανισμού υψηλής απόδοσης. Η δοσολογία στο διάλυμα επιμετάλλωσης είναι 0,01-0,02g/L. Όταν η περιεκτικότητα είναι χαμηλή, η φωτεινότητα μειώνεται, και όταν η περιεκτικότητα είναι πολύ υψηλή, η επίστρωση είναι επιρρεπής σε ευθραυστότητα. Μπορούν να προστεθούν μαλακτικοί παράγοντες για την εξάλειψη της ευθραυστότητας ή μπορεί να χρησιμοποιηθεί ηλεκτρολυτική επεξεργασία χαμηλού ρεύματος.