Καλή τιμή  σε απευθείας σύνδεση

λεπτομέρειες προϊόντων

Created with Pixso. Σπίτι Created with Pixso. προϊόντα Created with Pixso.
Πρόσθετα για την επικάλυψη με ψευδάργυρο
Created with Pixso. R·G-255 Ανεξάρτητη από κυανίτες οξεία κράμα ψευδαργύρου νικελίου Διαδικασία επικάλυψης φωτεινής Zn Ni

R·G-255 Ανεξάρτητη από κυανίτες οξεία κράμα ψευδαργύρου νικελίου Διαδικασία επικάλυψης φωτεινής Zn Ni

Επωνυμία: AOBANG
Αριθμός μοντέλου: R·G-255
MOQ: 25-30KG
Χρόνος Παράδοσης: 5-8 εργάσιμες
Όροι πληρωμής: T/T
Λεπτομέρειες
Τόπος καταγωγής:
Κίνα
Χαρακτηριστικός:
Χωρίς κυάνιο
όξινος-βάση:
οξύ
Τύπος μετάλλου:
Zinc-Nickel κράμα
Συσκευασία λεπτομέρειες:
25 κιλά/τύμπανο
Επισημαίνω:

Διαδικασία επιμετάλλωσης με όξινο ψευδάργυρο νικέλιο

,

διαδικασία επιμετάλλωσης κράματος νικελίου χωρίς κυάνιο

,

διαδικασία επιμετάλλωσης κράματος νικελίου χωρίς ψευδάργυρο

Περιγραφή προϊόντων

R·G-255 Μη κυανικού αλκαλικού κράματος ψευδαργύρου-νικελίου

Χαρακτηριστικά του προϊόντος

  1. Το RG-255 είναι μια αλκαλική μέθοδος επικάλυψης κράματος ψευδαργύρου-νικελίου χωρίς κυανίου.
  2. Η διαδικασία αυτή παράγει ανθεκτικές στη διάβρωση επικάλυψεις με διάφορα χρώματα, των οποίων οι επιδόσεις υπερβαίνουν τα πρότυπα που απαιτούνται από τους κατασκευαστές αυτοκινήτων.
  3. Εξαιρετική δύναμη ρίψης και δύναμη κάλυψης· ο αλκαλικός ηλεκτρολύτης διαθέτει χαμηλή διαβρωτικότητα.
  4. Σχηματίζει ηλεκτρολυτικά στρώματα κράματος ψευδαργύρου-νικελίου, που εφαρμόζονται στη μακροχρόνια συνεχής παραγωγή πλάκας.

Τεχνικές παραμέτρους λειτουργίας

Άρθρο Εργασιακό εύρος
Δυσσωματικότητα ρεύματος καθοδίου (επεξεργασία ράκα) 2.0·5.0 A/dm2
Δυσσωματικότητα ρεύματος καθοδίου (επεξεργασία βαρελιού) 00,8 ∆1,2 A/dm2
Η τάση (κρεμαστική επένδυση) 5.0·10.0 V
Η τάση (επεξεργασία βαρελιών) 12.0· 18.0 V
Απόδοση ρεύματος καθοδίου 50% έως 60%
Ποσοστό αποθέματος της επικάλυψης Περίπου 0,3 μm/min σε 2 A/dm2
Σφιχτότητα ρεύματος ανόδου 1·5 A/dm2
Υλικό άνωσης Πλάκες από σίδηρο ή από ηλεκτρολυτικό νικέλιο
Αναλογία περιοχής άνωτος / καθοδίου 2:1
Θέρμανση λειτουργίας 20°27 °C
Μέθοδος καθαρισμού του λουτρού Ηλεκτρολύση χαμηλού ρεύματος (0,1 ∼0,2 A/dm2)